ABBジャパン、セミコン・ジャパンに初出展
半導体湿式プロセス専用の分析システム「WPA」を展示

2005-12-06 - (ABBジャパングループ発表)ABB株式会社(鈴木勇社長、東京都渋谷区)は12月7日(水)~9日(金)まで、幕張メッセ(日本コンベンションセンター)で開催される「セミコン・ジャパン2005」に初めて出展します。海外で豊富な実績を持つリアルタイムオンラインモニター用分析システム「Analyze IT Wet ProcessAnalyzer (WPA)」を、展示いたします。会場で引き合いをいただいたお客さまには、実際のプロセスラインでご試用いただく「お試しキャンペーン」も実施しております。

電力技術とオートメーション技術の世界的なリーディングカンパニーであるABBは、計装・計測機器の分野でも世界的なトップ企業です。ABBは、Hartmann&Braun、Bomem、Kent、Taylor、Elsag-Bailey、Fischer&Porterといった伝統ある計装・計測機器ブランドのテクノロジーを引き継いでおり、各産業・公益事業の広範なアプリケーション向けに、豊富な計測ソリューションをラインナップしています。

ABBの日本法人であるABB株式会社は現在、ABBのソリューション群の中から、日本のお客さまに最適な製品を選りすぐって順次ご紹介しており、半導体はもとより、石油化学、化学、医薬、自動車、鉄鋼といった業種で新規の導入をいただいております。

「セミコン・ジャパン2005」でご紹介するWPAは、半導体製造に特化した特許取得済の検知セル「Clipp IR+」を光ファイバー接続したフーリエ変換赤外線(FTIR)分光計システムで、最大8計測ポイントを、コンタミネーションが発生しない非接触状態でオンラインモニターできます。測定可能な成分は湿式プロセスで使用されるNH4OH、H2O2、HCI、HF、KOH、NH4F、H2SO4、NH4F、HF、Acetic Acidなど30種類以上。販売価格は標準的なシステムで600万円からです。

リアルタイムな薬液モニタリングによって、最終製品の品質と歩留まりを向上させるだけでなく、最適な薬液管理によって薬液の使用量と廃棄量を低減し、コストの大幅な削減に貢献します。

ABBの半導体産業用分析機器は、表面処理装置の世界的な大手であるSEZ社でも標準的に使用されるなど、海外で豊富な実績を持っています。

ABBのブース(1A-011)にて、皆さまのご来場をお待ち申し上げます。

ABB(www.abb.com)は世界100カ国以上に103,000人のネットワークを擁する電力技術とオートメーション技術のリーディングカンパニーです。環境負荷を最低限に抑えながら業務効率を最適化するソリューションの数々を、産業界と公益事業のお客さまに
提供しています。


■本件に関するお問い合わせ先 ■

ABB株式会社
広報部 外川美穂(とかわみほ)
Tel: 03-5784-6254 Fax: 03-5784-6281
bs.communications@jp.abb.com
〒150-8512 東京都渋谷区桜丘町26-1 セルリアンタワー
www.abb.co.jp

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